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生瓷片沖腔機(jī)
用途：該設(shè)備用于帶框生瓷片沖腔工藝，具有自動(dòng)上下料、自動(dòng)定位，自動(dòng)沖切等功能，滿足LTCC、HTCC中沖切工藝需求。
TIME: 2024-12-12
全自動(dòng)清洗設(shè)備（新材料）
隨著半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展，砷化鎵、磷化銦等二代半導(dǎo)體化合物材料、氮化鎵、碳化硅等三代寬禁帶半導(dǎo)體材料，對于濕化學(xué)清洗工藝提出了新要求。在配置傳統(tǒng)獨(dú)立濕處理工藝槽（SPM、APM、HPM、DHF、IPA Dry）的基礎(chǔ)上，新材料清洗設(shè)備按照客戶工藝菜單進(jìn)行優(yōu)化設(shè)置，配液精度、配液種類、清洗方式方面進(jìn)行設(shè)計(jì)提升，同時(shí)保持與行業(yè)廠商、學(xué)校研究院所的積極聯(lián)合探索和設(shè)備定制。
TIME: 2024-10-11
半自動(dòng)濕處理設(shè)備
有不同的獨(dú)立濕處理工藝槽、按照客戶工藝菜單的設(shè)置，機(jī)械手在各工藝槽中進(jìn)行相應(yīng)的工藝處理。適合用于基片批量的腐蝕/去膠/顯影/清洗等工藝.
TIME: 2024-10-11
自動(dòng)供液系統(tǒng)
自動(dòng)供液系統(tǒng)可以通過VMB給多臺(tái)設(shè)備進(jìn)行供液。具有過濾、循環(huán)功能，根據(jù)用戶要求配備雙組或者多組過濾、循環(huán)系統(tǒng)；當(dāng)其中一個(gè)桶內(nèi)的液體用完時(shí)，能夠自動(dòng)進(jìn)行雙桶切換并且提示用戶。同時(shí)還具備化學(xué)液的取樣檢測功能。
TIME: 2024-10-11
溫等靜壓機(jī)
該設(shè)備用于 LTCC、HTCC 和 MLCC 的加壓作業(yè)，最 大壓力80MPa，最大直徑600，最小230
TIME: 2024-10-11
全自動(dòng)疊層機(jī)
全自動(dòng)疊層機(jī)是用于生瓷片疊片的設(shè)備，具備自動(dòng)上下料、自動(dòng)切片、自動(dòng)撕膜、自動(dòng)對位、真空疊壓等功能，廣泛應(yīng)用于LTCC、HTCC、MLCC等領(lǐng)域。
TIME: 2024-10-12
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有機(jī)清洗機(jī)在半導(dǎo)體領(lǐng)域的應(yīng)用有哪些
2025-02-06有機(jī)清洗機(jī)在半導(dǎo)體領(lǐng)域主要用于去除半導(dǎo)體晶圓、芯片制造過程中的各類有機(jī)污染物等，以下是其具體應(yīng)用： 1.光刻膠去除 在半導(dǎo)體制造的光刻工藝中，光刻膠被廣泛用于定義芯片的電路圖案。光刻完成后，需要使用有機(jī)清洗機(jī)去除未曝光或不需要的光刻膠。有機(jī)清洗機(jī)中的有機(jī)溶劑可以與光刻膠發(fā)生溶解或化學(xué)反應(yīng)，使光刻膠從晶圓表面脫落，然后通過沖洗和干燥等步驟，確保晶圓表面干凈，為后續(xù)工藝做好準(zhǔn)備。例如，使用 N - 甲基吡咯烷酮（NMP）等有機(jī)溶劑的有機(jī)清洗機(jī)，能夠高效地去除各種類型的光刻膠，包括正性光刻膠和負(fù)性光刻膠。
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自動(dòng)供液系統(tǒng)的特點(diǎn)有哪些
2025-01-21自動(dòng)供液系統(tǒng)是一種能夠根據(jù)預(yù)設(shè)條件自動(dòng)完成液體供應(yīng)的設(shè)備，廣泛應(yīng)用于工業(yè)生產(chǎn)、農(nóng)業(yè)灌溉、實(shí)驗(yàn)室等領(lǐng)域。其特點(diǎn)如下： 1.自動(dòng)化程度高 自動(dòng)感知與操作：通過各類傳感器，如液位傳感器、壓力傳感器、流量傳感器等，實(shí)時(shí)監(jiān)測系統(tǒng)中液體的相關(guān)參數(shù)。一旦檢測到參數(shù)偏離預(yù)設(shè)值，系統(tǒng)能自動(dòng)啟動(dòng)或停止供液設(shè)備，無需人工頻繁干預(yù)。例如在工業(yè)電鍍生產(chǎn)中，當(dāng)鍍液槽液位因生產(chǎn)消耗下降到設(shè)定值時(shí)，自動(dòng)供液系統(tǒng)可快速感知并開啟供液泵，補(bǔ)充鍍液，維持液位穩(wěn)定。
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全自動(dòng)硅塊清洗機(jī)如何提高加工效率
2025-01-14全自動(dòng)硅塊清洗機(jī)可以通過以下多種方式來提高加工效率： 一、優(yōu)化清洗流程 1.合理安排清洗步驟順序 對硅塊清洗的步驟進(jìn)行科學(xué)規(guī)劃。例如，先進(jìn)行初步的表面沖洗，去除大塊的雜質(zhì)和灰塵，然后再進(jìn)行化學(xué)試劑浸泡清洗，這樣可以避免一開始就使用化學(xué)試劑而導(dǎo)致雜質(zhì)被包裹在硅塊表面，影響清洗效果。接著進(jìn)行超聲波清洗，能夠深入清除硅塊表面和孔隙內(nèi)的微小顆粒。進(jìn)行純水漂洗，確保化學(xué)試劑無殘留。通過合理的步驟安排，減少清洗過程中的重復(fù)操作和不必要的時(shí)間浪費(fèi)。
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