用途:該設備用于帶框生瓷片沖腔工藝,具有自動上下料、自動定位,自動沖切等功能,滿足LTCC、HTCC中沖切工藝需求。
TIME: 2024-12-12隨著半導體行業發展,砷化鎵、磷化銦等二代半導體化合物材料、氮化鎵、碳化硅等三代寬禁帶半導體材料,對于濕化學清洗工藝提出了新要求。在配置傳統獨立濕處理工藝槽(SPM、APM、HPM、DHF、IPA Dry)的基礎上,新材料清洗設備按照客戶工藝菜單進行優化設置,配液精度、配液種類、清洗方式方面進行設計提升,同時保持與行業廠商、學校研究院所的積極聯合探索和設備定制。
TIME: 2024-10-11有不同的獨立濕處理工藝槽、按照客戶工藝菜單的設置,機械手在各工藝槽中進行相應的工藝處理。適合用于基片批量的腐蝕/去膠/顯影/清洗等工藝.
TIME: 2024-10-11自動供液系統可以通過VMB給多臺設備進行供液。具有過濾、循環功能,根據用戶要求配備雙組或者多組過濾、循環系統;當其中一個桶內的液體用完時,能夠自動進行雙桶切換并且提示用戶。同時還具備化學液的取樣檢測功能。
TIME: 2024-10-11該設備用于 LTCC、HTCC 和 MLCC 的加壓作業,最 大壓力80MPa,最大直徑600,最小230
TIME: 2024-10-11全自動疊層機是用于生瓷片疊片的設備,具備自動上下料、自動切片、自動撕膜、自動對位、真空疊壓等功能,廣泛應用于LTCC、HTCC、MLCC等領域。
TIME: 2024-10-12碳化硅晶體生長爐主要用于生產碳化硅晶體,因其具有禁帶寬度大、熱導率高、臨界擊穿場強高等特點,廣泛應用于半導體、新能源汽車、通信等多個行業,具體如下: 1.半導體行業:碳化硅是第三代半導體材料的代表,可用于制造肖特基二極管、MOSFETs 場效晶體管、IGBTs 絕緣柵雙極晶體管等功率器件,以及 GaN 基高頻器件等。碳化硅晶體生長爐用于生產碳化硅襯底晶圓,是制造這些半導體器件的基礎,在集成電路、功率半導體等領域發揮關鍵作用。
“全自動清洗設備(硅基)” 是專門針對硅基材料(如硅片、硅基器件、硅基半導體元件等)設計的自動化清洗設備,主要用于清除硅基材料表面的污染物、雜質,以滿足半導體制造、光伏產業、微納加工等高精度領域的工藝要求。以下從技術原理、應用場景、核心功能等方面詳細解析:
半自動濕處理設備是一類結合人工操作與機械化處理的濕加工設備,主要用于通過液體介質(如水、化學溶液、漿料等)對物料進行清洗、處理、加工或表面改性。其 “半自動” 特性體現在部分工序需人工干預(如上下料、參數調節),而核心處理過程由設備自動化完成。這類設備廣泛應用于紡織、食品、電子、金屬加工等行業,具體作用因應用場景而異,以下是典型領域的功能解析: